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展覽設計展館設計
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紀念展館設計專(zhuān)題之要點(diǎn)


1、紀念館定位
   
     工作類(lèi)紀念館、人物類(lèi)紀念館。人物類(lèi)紀念館又分團體紀念館和單人紀念館。
     
     工作類(lèi)紀念館環(huán)繞以時(shí)刻為原點(diǎn),以時(shí)刻為半徑,敘事節奏依照時(shí)刻的起因、打開(kāi)、高潮、完畢、影響來(lái)進(jìn)行,講觸及人物融入到工作推進(jìn)的過(guò)程中。

     團體紀念館以時(shí)刻為經(jīng),工作為緯,講人物融入年代之中,從微觀(guān)歷史的視點(diǎn)論述人物的貢獻。

    單人紀念館首要環(huán)繞個(gè)人生平事跡打開(kāi)敘事。



2、空間規劃

     紀念館空間規劃應貼合主題定位。團體類(lèi)紀念館,一般比較嚴肅肅穆,以革命紀念館或勇士紀念館為例,要從視覺(jué)顏色的應用上,帶動(dòng)欣賞情緒,讓觀(guān)眾置身其中。個(gè)人紀念館,空間顏色要跟人物生平緊密貼合。新式紀念館,展品展柜的設置上,不再局限于落地式的展柜,壁掛式展柜能更好的融入展陳。



3、配套設備

     考慮到紀念館的教育性功能,經(jīng)常招待欣賞團體,衛生間的排放位置要合理。



4、以上是咱們在施行了多個(gè)紀念館之后的心得總結。

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